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Système de dépôt d’atomes sous ultra vide assisté par faisceau d’ions

Descriptif :

Marque :

Année : 2003

Caractéristiques :

* Une cellule d’évaporation thermique Riber 110L T°<1400°C (type MBE)
* Deux cellules d’évaporation par bombardement électronique Omicron EFM3 160°C* Une source d’ions Veeco- Ion Tech 50eV-2keV, 0-200mA muni d’un neutraliseur
* Une balance à quartz Inficon (précision : 0.1Å)
* Porte substrat chauffant T°<1200°C

Utilisations :

Ce système permet la croissance d’agrégats métalliques supportés (Co, Pd, Pt, Rh, Au, …) et l’élaboration de couches minces et multicouches sur différents substrats (monocristallin ou amorphe sur 1cm2). Ces dépôts peuvent être assistés par faisceau d’ions (argon). Il est également possible de préparer la surface par bombardement ionique et recuit. Cette enceinte de dépôt est couplée à un spectromètre de photoélectrons ESCALAB 250 permettant la caractérisation sous UHV par XPS des échantillons

Contact :

Caroline Andreazza, Pascal Andreazza

Appareil financé avec le soutien de la région centre