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Dépôt d’atomes sous ultra vide (type MBE)

Descriptif : Evaporation UHV/analyse XPS in situ - Nanostructures et films ultraminces

Marque : Multi fabricants

Année : Update 2010-2018
















Caractéristiques :

* Chambre d’évaporation et chambre de préparation sur Ultravide 10-10 mbar

* Nanoalliages de métaux (Co, Fe, Ag, Pd, Pt, Rh, Au, …)

* 1 cellule d’évaporation par effet Joule Riber 110L T°<1400°C (type MBE)

* 2 cellules d’évaporation BE « canon à électrons- standard » Omicron EFM3
160°C<T< 3000°C avec moniteur de flux

* 1 cellule d’évaporation BE « fort flux/ large surface » Omicron EFM4
160°C<T< 3000° C avec moniteur de flux

* 3 Alimentations Focus 300W- 1000KV et 600W-2000KV avec moniteur de flux

* 1 source d’ions Veeco- Ion Tech 50eV-2keV, 0-200mA muni d’un neutraliseur

* 1 balance à quartz Inficon (précision : 0.1Å)

* Four BE T°<1200°C

* Porte substrat chauffant résistif T°<900°C grande stabilité (+-0.1°C)

* Platine goniométrique

* Standard de porte-échantillon Omicron

* Dépôt de couche de protection Alumine Al2O3 ou carbone a-C, in situ sous Ultravide

* Mesure de température par thermocouple et émissiomètre/pyromètre

Utilisations :

Cet ensemble permet la croissance sous ultravide de nanostructures 1-20nm supportés (nanoalliages ou pures) d’une large gamme de métaux (Co, Fe, Ag, Pd, Pt, Rh, Au, …) et l’élaboration de couches minces et multicouches sur différents substrats (monocristallin ou amorphe jusqu’à 2cm2 ). Ces dépôts peuvent être assistés in situ par faisceau d’ions (argon). Il est également possible de préparer la surface par bombardement ionique et recuit. Un capping d’alumine, de carbone ou d’un autre métal peut être réalisé in situ en fin de croissance. Cette enceinte de dépôt est couplée sous UHV à un spectromètre de photoélectrons XPS permettant la caractérisation in situ des échantillons (voir Analyse de surface ESCA).

Contact :

Caroline Andreazza, Pascal Andreazza

Appareil financé avec le soutien de la région centre